• UHD-TLM-000

  • BG(Back Grinding) 공정은 반도체 wafer의 후면을 grinding해 package type에 맞게 두께를 설정하는 공정
  • 이 때 완충작용을 통해 wafer 전면의 파손을 방지하고 표면오염을 방지하기 위한 보호 tape가 필요.
  • 본 장비는 BG 전에 이 보호 tape를 wafer pattern 면에 접착하는 장비.
CATEGORIESITEMSPECIFICATION
BASIC
SPECIFICATIONS
Dimension

Weight

Color

Painting

Operation

Stage Temperature

Center Table Section

1,440(W) x 1,700(D) x 1,800(H) mm

800 kg

Silver, Gray & Dark Gray

Glossy Heat Drying Paint

Manual Type by Button

Room Temperature ~ 130℃

Contact

APPLICABLE
WAFER
Wafer Size

Wafer Type

Thickness

6" / 8" (inch)

Flat, V-notch450 ~ 800 ㎛

APPLICABLE
TAPE
Tape Type

Tape Size

Tape Thickness

Tape Consumption

Normal, UV Type

250 ± 0.2㎜ (8"), 330 ± 0.2㎜ (12")

100㎛ ~ 500㎛

≤ 330 ㎜ / ea (12“) , 230 ㎜ / ea (8“)

SYSTEM
PERFORMANCE
UPEH *1

MTBF *1

min. 70 ea/hr (12”) , 75 ea/hr (8”)

min. 1,000 hr

ACCURACYCutting Accuracy

Alignment Accuracy

≤ ± 0.3㎜

≤ ± 0.3˚

FACILITIESPower Supply

Power Consumption

Air Pressure

Ambient Temp.

Ambient Rel. Humidity

AC 210~230V, 50 / 60Hz, Single phase

1.5 kWh

5 to 6 kgf/cm2

20 ± 5℃

60 ± 15%